田扬超

田扬超，博士，研究员，博士生导师，中国物理学会同步辐射专业委员会常务委员。1963年1月出生，1992年10月在中国科学技术大学获得博士学位。1992年7月-1995年6月,中国科学技术大学国家同步辐射实验室助理研究员，1995年6月-2000年1月，国家同步辐射实验室副研究员，2000年1月-现在，国家同步辐射实验室研究员。　近年来，完成了LIGA和X射线成像光束线实验站等大型实验装置的建设，承担着国家自然基金重点和面上项目、“863”项目和教育部“985”工程二期子项目等研究课题。已在J.MEMS,J.Micromech.Microeng,MicosystemTechnologies等国内外杂志共发表70余篇，获得国家专利4项（其中3项为发明专利），申请发明专利两项。主要研究方向：1.高空间分辨X射线成像高空间分辨位相衬度成像、三维成像(NanoCT)，高空间分辨成像在纳米材料、环境科学以及生物医学中应用研究。2.微细加工技术亚微米、纳米光刻及器件制作以及应用研究。3．微流体芯片和微反应系统　微反应系统制作及化学反应中的应用。主要发表论文：1.Y.Guo,G.Liu,Y.Xiong,J.Wang,X.Huang,Y.Tian*,StudyofHotEmbossingUsingNickelandNi-PTFELIGAMoldInserts.J.MEMS.16(3),(2007)589-597.2．YuhuaGuo,GangLiu,YinXiongandYangchaoTian*,Studyofthedemoldingprocess—implicationsforthermalstress,adhesionandfrictioncontrol，J.Micromech.Microeng.17,(2007)9–193.XuelinZhu_GangLiu_YuhuaGuo,YangchaoTian*,StudyofPMMAthermalbonding.MicrosystTechnol,13,(2007)403–4074.　　YuhuaGuo_GangLiu_XuelinZhu,YangchaoTian*,Analysisofthedemoldingforcesduringhotembossing,MicrosystemTechnologies,13(2007)411–4155.YuhuaGuo,GangLiu,YangchaoTian*,Investigationonoverplatinghigh-aspect-ratiomicrostructure.Proc.OfSPIE,Vol.6109,61090M(2006)6.GangLiu,YangchaoTian,YingXiong,YaKan,Fabricationof3DPhotonicCrystalbydeepx-raylithography.Proc.OfSPIE,Vol.6110,61100R(2006)7.ZhangPeng,LiuGang,Tian,YangchaoTian*，TianXuehong,ThepropertiesofdemouldingofNiandNi-PTFEmouldinsert.SensorsandActuatorA,118(2005)338-341.8.TianY.ZhangP.LiuG.TianX,ThelifetimecomparisionofNiandNi-PTFEmouldinginsertswithhighaspect-ratiostructure.MicrosystemTechnologies,11(2005)261-264.9.TianX.,LiuG.,TianY*,ZhangP.ZhangX,SimulationofDeepUV-lithgoraphywithSU-8resistbyusing265nmlightsource.MicrosystemTechnologies,11(2005)265-270.10.LiuG.TianY.KanY,Fabricationofhigh-aspect-ratiomicrostructureusingSU8photoresist.MicrosystemTechnologies,11(2005)343-346.