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陈松岩
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陈松岩

博士生导师、教授

所在地:福建厦门市 入职年份: 资料待完善 学历: 硕士 毕业院校: 资料待完善

从事领域 资料待完善

擅长能力 Si基光电材料与器件 Si负极锂离子电池 全固态锂离子电池

 1993年攻读博士学位,在博士期间曾参加863项目-1.55μm量子阱激光器与HBT单片集成光发射机研制,在国内利用低压MOCVD技术生长出1.55μm的量子阱激光器和满足光电集成的需HBT和MESFET等器件,器件性能达到国际先进水平。1995年博士毕业以后,在厦门大学任教至今,1997-1998年,在此期间在俄罗斯莫斯科国立大学物理系作访问学者。96年为厦门大学优秀青年骨干教师,2000年-2001年曾获福建省科技进步二等奖,厦门市科技进步三等奖。自工作以来承担863国家高新技术项目、国家基金项目、国家教育部优秀青年骨干教师项目、留学回国基金项目、福建省青年重点基金项目、高新技术项目、省基金项目、国际合作项目等。目前主要研究方向为Si基半导体材料和光电器件的研究。     论文发表:(1)RoleofGeinterlayerinthegrowthofhigh-qualitystrainrelaxedSiGelayerwithlowdislocationdensity,AppliedSurfaceScience257(2011)2818–2821,2011年10月(2)Si(100)表面Se薄膜生长及其在Ti/Si欧姆接触中的应用,ActaPhys.Sin.Vol.60,No.9(2011)098108,2011年09月(3)Energybanddesignforp-typetensilestrainedSi/SiGemulti-quantumwellinfraredphotodetector,OPTOELECTRONICSLETTERSVol.7No.3,1May2011,2011年05月(4)FormationandopticalpropertiesofnanocrystallineseleniumonSisubstrate,ThinSolidFilms519(2011)6102–6105,2011年04月(5)Si基外延Ge薄膜及退火对其特性的影响研究,光电子.激光,2011,22(2):215-218,2011年02月(6)ThermalStabilityofNickelGermanideFormedonTensile-StrainedGeEpilayeronSiSubstrate,ElectronDeviceLetters,IEEE,vol.31,pp,863-865,2010,2010年08月(7)GaN基LED与Si键合技术的研究,光电子.激光,2010,21(8):1202-1205,2010年08月(8)GeIncorporationinHfO2DielectricDepositedonGeSubstrateduringDry/WetThermalAnnealing,J.Electrochem.Soc.,Volume157,Issue6,pp.H603-H606(2010),2010年04月(9)ThermalstabilityofSiGelmsonanultrathinGebufferlayeronSigrownatlowtemperature,APPLIEDSURFACESCIENCE,2010,256(22):6936-6940,2010年04月(10)Quantum-confineddirectbandtransitionsintensilestrainedGe/SiGequantumwellsonsiliconsubstrates,Nanotechnology,2010,21(11):115207-1-5,2010年02月(11)GaN/metal/Siheterostructurefabricatedbymetalbondingandlaserlift-o,JournalofSemiconductors,30(12):123001-4,2009年12月(12)EnhancedphotoluminescenceofstrainedGewithadelta-dopingSiGelayeronsiliconandsilicon-on-insulator,AppliedPhysicsLetters,95(25),2009/12/21,2009年12月(13)Strain-inducedanodizationofSiGe/SimultiplelayerstoformhighdensitySiGe/Siheterogeneousnanorods,SolidStateCommunications,149(43-44),pp1897-1901,2009/11,2009年11月(14)Experimentalevidenceofoxidant-diffusion-limitedoxidationofSiGe

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