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[00001928]一种微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4的制备方法、产品及其应用

交易价格: 面议

所属行业: 其他新材料技术

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201110134756.1

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 许尔杰

进入空间

所在地: 江苏南京市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

本发明涉及一种微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4的制备方法,包括以下步骤:首先,在L-色氨酸存在的条件下,四氯化锡化合物、醋酸锌化合物和碱金属氢氧化物在水中进行反应,并分散均匀;然后,在高压釜中反应,控制反应温度为170~200℃;最后,将反应产物分离、干燥,得到微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4。其中,四氯化锡化合物∶醋酸锌化合物∶碱金属氢氧化物的摩尔比为1∶(2~3)∶(8~12),L-色氨酸∶四氯化锡化合物的摩尔比为5~10∶3。本发明还涉及由该方法制得的微/纳分级结构插片八面体Zn2SnO4及其在染料敏化太阳能电池电极中和在光催化还原CO2中的应用。

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