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[00100989]一种均相两性离子交换膜的制备方法

交易价格: 面议

所属行业:

类型: 发明专利

技术成熟度: 已有样品

专利所属地:中国

专利号:CN202011270651.4

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服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

一种均相两性离子交换膜的制备方法,包括:(1)3,3’-二溴-4,4’-二氟二苯砜与改性化合物经Heck反应制备得到式(III)所示的改性4,4’-二氟二苯砜;所述的改性化合物为乙烯苯磺酸钠、6-庚烯酸钠、烯丙基磺酸钠或3-丁烯酸钠;(2)4,4’-二氟二苯砜和2,2-二(3-氨基-4-羟苯基)六氟丙烷缩聚生成齐聚物A;改性4,4’-二氟二苯砜和式(IV)所示的1,n-二(4-羟苯基)链烷单体单体缩聚生成齐聚物B;将齐聚物A和齐聚物B混合经缩聚得到聚合物C;(3)利用式(V)所示的1-溴-6-咪唑盐己烷链对聚合物C进行功能化改性得到聚合物D;(4)利用溶液浇铸法将聚合物D制膜并将制得的膜转化成酸型,从而得到均相两性离子交换膜。

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