交易价格: 面议
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类型: 发明专利
技术成熟度: 已有样品
专利所属地:中国
专利号:CN202011593312.X
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本发明公开了一种光探测器及制备方法,探测器包括WSe-2薄膜材料、ZnTe薄膜材料、n-Si基底和金属电极;所述的n-Si基底上生长WSe-2薄膜,WSe-2薄膜上生长ZnTe薄膜,n-Si基底、ZnTe薄膜表面分别生长金属电极。本发明制备的光探测器,以n型硅为基底,与集成电路工艺兼容;具有厚度薄、光响应快、可探测黄绿光到近红外波段光的优点。
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