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本发明涉及一种纳米压印的方法。一种纳米压印的方法,包括以下步骤:提供衬底,在衬底表面形成聚合物层;将聚合物层加热至软化,并对聚合物层远离衬底的一侧进行第一次压印,以在聚合物层上形成具有多个光栅线的第一纳米压印图形;及将聚合物层加热至软化,再对第一纳米压印图形进行第二次压印,以得到更精细的纳米压印图形。上述纳米压印的方法能够得到更精细的纳米压印图形;同时,不需要制作更精细的模板,在现有模板的基础上就可以制得更精细的纳米压印图形,不仅能够降低模板的制作时间和成本,而且还能够保证和提高纳米压印图形的产出率和良品率。