[00108244]制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用
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技术详细介绍
本发明提出了制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用。该制备高精度图案化的量子点发光层的方法包括：(1)在衬底的一侧涂布反转光刻胶，并对反转光刻胶进行光刻处理，以便形成纵截面为倒梯形的镂空图案；(2)对镂空图案处的衬底进行疏水处理，并沉积量子点薄膜；(3)对量子点薄膜进行交联处理；(4)剥离反转光刻胶。本发明所提出的制备方法，使用反转光刻胶后，可使得显影后光刻胶的纵截面为倒梯形结构，如此能使光刻胶更易被剥离，从而使量子点发光层图形的精度更高，进而使制备量子点发光层图形方法的良品率显著提高。
