[00109414]一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法
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技术详细介绍
本发明公开了一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法，所述方法中，采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板。本发明提供的基于纳米压印制备光学超构表面的方法，能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法，大幅度降低成本，并且缩短生产时间。本发明提供的方法在生产成本和生产时间上显著提高，实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本，大规模制作，具有良好的产业化前景。
