[00109435]曲面纳米结构的制备方法
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技术详细介绍
本发明涉及一种曲面纳米结构的制备方法。上述曲面纳米结构的制备方法包括如下步骤：在衬底上旋涂电子束抗蚀剂，形成抗蚀层；将抗蚀层进行曝光和显影，得到具有图案的抗蚀层；对衬底和具有图案的抗蚀层进行离子刻蚀，以使抗蚀层被刻蚀，并使衬底上形成曲面凹槽，得到曲面纳米结构。上述曲面纳米结构的制备方法工艺简单且能够得到具有光滑曲面的纳米结构。
