[00109824]纳米结构的制作方法
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技术详细介绍
本发明涉及一种纳米结构的制作方法。该方法包括如下步骤：绘制版图，版图设有曝光区域和非曝光区域，在非曝光区域中设置辅助曝光区；使用正性电子抗蚀剂在衬底上形成抗蚀层；根据版图对抗蚀层进行曝光处理，然后进行显影处理，得到具有图案的抗蚀层，其中，曝光处理的步骤中，辅助曝光区的曝光剂量小于曝光区域的曝光剂量，以使抗蚀层对应辅助曝光区的区域形成凹槽；在具有图案的抗蚀层上形成金属层，得到层叠件；使用去胶试剂清洗层叠件以去除抗蚀层，得到纳米结构。上述纳米结构的制作方法能够使图形较易剥离且得到的图形完整。
