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项目内容
离子束辅助沉积(IBAD)把离子注入和常规的物理气相沉积技术结合起来,兼备了二者的优点而消除了二者的缺点,最显著的改善在于提高了膜的结合强度以及在常温下合成。1971年S.Aisenberg等人首先报导使用离子束沉积技术制备出具有金石特征的非晶碳薄膜以来,国内外许多科技工作者先后采用含碳气相离子束直接沉积(IBD)技术、双离子束溅射沉积(DIBS)技术、离子束溅射(IBS)技术以及离子注入等方法在钢、硬质合金、玻璃、硅、NaCl等多种基材上获得了良好的DLC膜。目前,DIC膜已应用于机械工程耐磨耐蚀涂层、扬声器振动膜、红外激光窗口保护膜、计算机磁盘等磁介质保护膜、集成电路高电阻绝缘、医学工程生物相容膜等广泛领域。
技术特性
1.均匀镀膜面积4>200mm或300mmx100mm;2.类金刚石膜结合强度高;
耐磨耐蚀工件表面经类金刚石涂层后,寿命提高1倍以上。
应用范围
①用作干摩擦环境中的固体润滑膜,主要起减摩耐磨作用,如直升飞机轴承、切削刀具和钻头、拉丝摸等工件表面涂层。②光学镜片、磁盘等抗磨损和划痕的保护膜;剃须刀片、手术刀等防锈、防菌保护膜。
合作方式
合作开发及其他合作形式。