[00110338]一种PECVD装置
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技术详细介绍
本发明公开了一种PECVD装置，包括工艺腔体，以及均设置在所述工艺腔体内的承载架、冷却均热板及至少一个反应室；所述均热为多个，沿竖直向呈层式排布安装至所述承载架；所述反应室水平设置在相邻两个均热之间，且各所述反应室的上下两侧均设置有所述均热。各反应室的上下两侧均设置有均热，通过均热的冷却均热和隔离作用，消除各反应室之间的热量辐射干扰，保证各反应室温度的一致性；同时冷却加热板具有冷却的作用的，避免工艺腔体温度过高，保护工艺腔体的密封结构，又使工艺腔体的温度不致过低，避免浪费加热的能源。
