本发明提供一种单向低电容瞬态电压抑制器及其制作工艺,其中该抑制器包括P+半导体衬底,位于P+衬底上的P-外延层,所述的P-外延层上从左到右依次设有第一N阱,第一P+有源注入区,第二N阱,第一P阱;所述的第一N阱和第二N阱上分别设有第一N+有源注入区和第二N+有源注入区;所述的第一P阱上设有第一N-有源注入区和第二P+有源注入区;所述的第一N-有源注入区上设有第三P+有源注入区;所述的第二N+和第三P+有源注入区、第一N+第一P+及第二P+有源注入区分别通过金属连接并引出。本发明的技术方案可在被保护器件的正常工作电压下,不会影响数据的高速传送,保证了大电流的泄放能力,而且具有更好地电流泄放能力。