[00112116]光刻机照明均匀性校正装置和校正方法
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技术详细介绍
一种光刻机照明均匀性校正装置和校正方法,校正装置包括基座、上校正模块和下校正模块。上校正模块与下校正模块放置于照明光场的扫描方向的两侧,且相对于照明光场非扫描方向对称分布。其中上校正模块与下校正模块中均有一块柔性薄板,通过控制该柔性薄板横截面上不同点的位移来得到相应的挠曲变形,并沿照明光场扫描方向运动进入照明光场以遮挡部分照明光,从而达到校正照明均匀性的目的。因柔性薄板发生挠曲变形后的轮廓为连续曲线,所以本发明的装置具有更高的校正能力和校正分辨率。
