[00112898]YH2M8426B高精度立式双面研磨（抛光）机

1、产品用途 YH2M8426B高精度立式双面研磨（抛光）机主要应用于不锈钢、铝铜合金等金属零件和晶体片、玻璃、陶瓷等非金属零件的高精度双平面粗研磨抛光。 2、关键技术 （1）中心传动设计技术 （2）齿圈升降机构设计技术 （3）游星轮的高旋转精度技术 （4）切入时防瞬间冲击技术 （5）磨液供给系统设计技术 3、产品主要技术创新点 （1）建立了抛光运动轨迹的数学模型,研究了加载压力、工件转速等工艺参数对抛光表面质量的影响规律,确定并优化了工艺参数,为机床设计提供了依据。 （2）研发了适用于超薄工件抛光用游星轮高精度运动机构,提高了游星轮的旋转精度及旋转稳定性能,解决了超硬脆薄性工件易碎的技术难题,大幅提高超硬脆工件的抛光质量。 （3）设计了高刚度的同心轴系,优化了抛光托盘和齿圈支架结构以及轴承的配对形式,确保了整机的刚度,改善了研磨过程的动态稳定性。 （4）提出了上盘柔性加载机构设计方案,实现了研磨压力的均匀分布,能有效防止加压瞬间脆性工件的“碎边”破损问题。 （5）提出了一种抛光液温度控制方法及倾斜式内腔磨液储存装置,解决了磨液搅拌不均匀的技术难题,可有效保证研磨工作的稳定性。