[00117874]一种具有五靶头的磁控共溅射设备
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技术详细介绍
具有五靶头的磁控共溅射设备,本发明磁控溅射设备在腔体内设置有三个溅射靶、基片台、基片台支架、基片台挡板。所述的三个溅射靶包括两个单靶头溅射靶和一个三靶头溅射靶,可通过旋转安装于所述的腔体外侧的转轮把手选择溅射靶材。所述的基片台支架用于支撑基片台,所述的基片台挡板安装在基片台上方。本发明提供的磁控溅射设备,可实现五种溅射靶材料单独溅射或三靶共聚焦溅射功能。
