[00118495]一种减阻表面的制造方法
联系人：
所在地：
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明属于微纳制造技术领域,涉及一种减阻表面的制造方法。在硅、二氧化硅基片、工程塑料基片或者金属基片表面上设计、制作出交错排列的微米级结构阵列,以紫外压印光刻技术为转移手段,模板可重复使用;以氟化工艺作为表面处理手段,得到具有减阻功能的微结构基片,该基片微结构表面的表面能极低。可用于微机电系统器件表面,能减小微尺度下的表面摩擦、磨损及粘附失效;用于运输管道和微流器件表面,能降低流体在微通道中的沿程压力损失,减小流体的流动阻力,增大流速;用于航空、航天、航海、交通运输等领域中,能减小能耗,节省能源。
