[00012155]准一维纳米线阵列材料的氧化铝模板合成
技术详细介绍
技术投资分析：
近年来，多孔氧化铝模板(AAM)被广泛用于制备准一维纳米线有序阵列体系，相对于光刻法、分子束外延法、化学气相沉积等方法具有下面一些独特的优点：孔径在5-200nm范围内可调，厚度可以从几微米到几百微米，孔密度高达109-1012个/cm2，热稳定性好、重复性好，同时，氧化铝模板法还具有制备简单、价格低廉的特点，因此倍受人们青睐。电化学共沉积工艺作为一种传统的材料制备方法，也具有很多优点：①工艺简单，容易控制各种金属离子的沉积量，便于实现大规模生产；②可以制备多种纳米材料，如：金属（Fe、Ni等）、合金（Ni5Zn21、Ag7Te4等）、半导体（CdS、ZnO等）等；③所制备的纳米线阵列的致密度高。将AAM模板和电化学共沉积技术相结合，是制备纳米线阵列材料的一种很好的方法。
技术的应用领域前景分析：
随着高新技术的发展，应用领域十分宽广。
效益分析：
该技术可应用于相关企业提升产品效率，具有较大经济效益。
厂房条件建议：
无
备注：
无
