[00121240]一种红外低折射率混合镀膜材料及制备方法
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技术详细介绍
本技术成果发明了一种红外低折射率混合镀膜材料及制备方法,该材料由氟化镨和氟化钡混合而成,两种材料的摩尔成份比为：氟化镨70～80:氟化钡30～20。该材料折射率小,无放射性,制备的薄层光谱性能优越,尤其膜层应力优于目前常规使用的低折射率镀膜材料。 该材料由氟化镨和氟化钡混合而成,折射率为1.35,两种材料的摩尔成份比为：氟化镨70～80:氟化钡30～20,混合镀膜材料的形状为圆柱体。 混合镀膜材料成分不含放射性,且折射率与目前主要使用的红外低折射率镀膜材料相当,光谱性能优于其它红外低折射率镀膜材料。使用该材料镀制单层膜的厚度可以达到2um,而常规使用的氟化物材料仅能达到1um。 该材料的最大特点是膜层应力小,相同厚度的单层膜薄膜,该混合镀膜材料的应力要小于其它红外低折射率材料。 该材料制备的单层膜厚度可以达到2um,且经过1周泡水实验,再经过胶带撕拉,薄膜未发生脱模现象。 该材料蒸镀性能优越,采用电子束蒸发的方法镀制,束流要求小,蒸发速率稳定。
