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项目来源于企业自选,本项目产品193nm光刻胶单体(金刚烷系列),是193nm光刻胶的主体材料。主要用于集成电路和半导体分立器件细微图形加工,是电子信息产业中超大规模集成电路关键材料,除广泛应用在与我们生活息息相关的手机、电脑等电子产品外,在航空航天、军事科技等领域有重要应用。由于美国等西方国家实施的《瓦森纳协定》对华产品及技术出口管制,对中国的电子材料产业发展具有深层次的影响。使中国在该领域落后国际先进水平10年左右,有2-3代的差距,极大妨碍中国在半导体产业链生产中的水平升级。 本项目的研发和产业化生产打破了欧美垄断,填补国内该领域空白,突破中国在该领域的落后局面,引领中国高端光刻材料产业链,实现单体生产的产业化,为中国的集成电路发展作贡献。 项目主要成果有:首先拥有光刻胶单体生产领域16项授权发明专利;其次企业自主研发成功的生产工艺技术;再次是有成功的市场化的产品。成果来源均为企业自主研发,企业具有完全自主知识产权,无知识产权纠纷隐患。同时公司拥有独立的研发中心、该领域最大的研发团队、自主的知识产权、先进的分析检测设备、完备的中试设备,标准化的生产车间,企业拥有自己的核心技术研发团队、中试放大团队及生产团队,并通过专业化的流程管理来控制产品质量。同时有中科院微电子所的技术支持,产品的上线测试,并根据测试结果优化工艺路线等。 关键技术突破: 1)低温酯交换工艺; 2)超纯水洗涤工艺; 3)低温重结晶工艺; 4)精馏阻聚提纯工艺; 5)去除有机化合物中的金属离子工艺。 主要技术指标: 193nm光刻胶单体的主要技术指标:纯度≥98.00%、金属离子≤100ppb、水分≤0.1%、 GPC(凝胶色谱)≥99.00%、低聚物≤1000ppm、高聚物≤100ppm。 该项目实施以来取得了较好的经济效益和社会效益,2011年中试,2012年开始小批量生产,实现销售收入3000多万元,2013年实现8000多万元,至2015年末实现销售收入17000多万元,利税4000多万元。为社会提供160多个就业岗位,入职员工工作期间全部免费就餐,享受国家节假,缴纳五险一金等,开展多样的文艺活动,建立各种激励措施。企业发展的同时不忘回馈社会,公司为偏远乡镇读书点捐赠电视、组织当地其他单位开展各种有益竞赛等。地方以博康公司为产业核心成立了电子新材料产业园,形成光刻胶单体、光刻胶、光刻设备等光刻产业链,促进当地方产业结构的调整,为当地经济的发展奠定基础。公司正在与中科院微电子研究所合作准备建立先进光刻材料研发中心、联合实验室等开展多层次合作,完善了我国光刻产业链,为国家光刻胶单体技术的研发做出进一步的贡献。