[00126094]新型还原清洗剂生产新工艺

本项目属企业自选项目。 我公司研发的新型还原清洗剂,为多种还原剂、稳定剂、催化剂、渗透剂等的复配制剂。用于分散染料染色后酸性还原清洗。 项目工艺：在反应釜的循环母液中预先加入有机聚合物晶习改性剂,在双氧水中加入有机膦酸、EDTA稳定剂,并流加到反应釜中,硫脲和碳铵混合后采取分批加入,在2-10℃条件下,硫脲和双氧水反应结晶出高活性、高稳定性二氧化硫脲晶体。经离心、烘干后,将二氧化硫脲、葡萄糖、元明粉、表面活性剂、特制催化剂、抗氧剂等按顺序、按比例分步慢慢投入混合机内混合制成新型还原清洗剂。 本产品主要应用于分散染料染色后的还原清洗,其创新点是： ①催化剂、稳定剂和渗透剂的使用。催化剂的使用使新型还原清洗剂用量为保险粉用量的1/3左右,而还原清洗的时间缩短了1/2,。在催化剂和渗透剂的协助下,还原剂可使浮色可以溶解到水中被洗下来且被还原剂还原破坏,失去二次沾色的能力。因为添加了稳定剂,新型还原清洗剂安全稳定,可以再复配以碱剂、反沾污剂其他功能性助剂。 ②项目可以利用过二氧化硫脲生产过程中所产多余母液,具有良好的节能减排环保意义。 ③染色结束后使用新型还原清洗剂,无需排掉残液,直接加入足量碱剂及新型还原清洗剂进行清洗。取消了排液、进水和升温程序,节能减排的同时也提高了效率,降低了成本。 ④辅料的选择。为了不会释放出二氧化硫、硫化氢及其它有毒物质。对辅料的性质作出分析进行筛选：使用结束后不会对人体及环境造成危害,同时分解产物不会污染环境,最终分解产物为自然界固有的物质。 ⑤适用范围广,可以用于各种分散染料染色的各种的涤纶。 产品主要性能指标达到HY还原清洗剂（Q/PHH005-2012）的标准要求。 项 目 指 标 A B C 二氧化硫脲/CH4N2O2S（%）/（20℃以下）≥ 75 50 20 外观 白色或彩色粉状或颗粒状固体 铁（Fe）/（%） ≤ 0.002 水分/（%） ≤2.0 堆积密度（g/ml）0.40～1.60 pH值（30g/l水溶液）3～6 还原能力（碘量法） ≥ 24.0mmol e-/g 还原清洗时间 ≤ 10分钟 95摄氏度