[00127736]光学元件亚表面损伤的化学刻蚀测量方法、辅助实验装置及试验方法
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本发明涉及光学元件亚表面损伤的化学刻蚀测量方法、辅助实验装置及试验方法,该方法通过测量刻蚀过程中样品的粗糙度,绘制粗糙度轮廓随刻蚀时间的演化关系曲线,来得到亚表面损伤深度值。利用化学刻蚀辅助装置,实现对光学元件的刻蚀、清洗和烘干过程,并在清洗过程加入超声震荡仪辅助清洗,在烘干过程加入吹风机与电机辅助烘干。本发明能够快速、准确地测量出亚表面损伤深度,且设计了一套刻蚀辅助装置,装置操作简单、效率高、危险性低,而且能有效减少刻蚀过程中产生的沉积物,大大降低了其对刻蚀及测量的影响。
