[00128348]高透过率透明导电薄膜

该技术成果来源于上海市科学技术委员会支持的纳米专项-新型一维纳米纳米材料的制备及其应用于光电器件的研究（12nm0504800）中所取得研究成果。 在新型光电器件产业中,对透明导电薄膜的要求逐渐提高,能够采用简单、易于调控、可重复性高的的技术获得低成本的高透过率透明导电薄膜居具有重要意义。现有的透明导电薄膜主要以氧化铟锡、氧化锌铝等单种材料为主,应用中受到诸多制约。本技术成果主要采用磁控溅射技术制备复合膜的方式,提供了性能良好的透明导电薄膜制备方法。。 磁控溅射技术属于一种低温制备技术,在常温下即可沉积多种金属或氧化物薄膜,因此在光学、光电器件、表面防护等诸多领域具有广泛的应用前景。且对基底材料无任何限制,能够实现柔性基底上制备相关薄膜。 本成果中,筛选出提供二氧化锡、二氧化锌,二氧化硅及金属铜等材料,采用磁控溅射技术制备二氧化锡/氧化锌/二氧化硅/基底材料/二氧化硅,或二氧化硅/二氧化锡/氧化锌/二氧化硅/基底材料/二氧化硅的多层透明导电薄膜结构,以及氧化锌/铜/氧化锌的三明治结构,经实验验证,两种结构的透光率均在85%以上,并具有良好的导电性能。经过多次探索,能够获得稳定的工艺参数。 本技术成果在光电器件、太阳能电池、光学器件等领域具有重要的应用价值,能够极大降低相关电极的成本,并减少对稀有元素In的使用。 共申请相关专利3项,已授权2项。