[00134650]BP-215紫外正型光刻胶
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技术详细介绍
该成果主要由感光剂、树脂、溶剂、添加剂组成，采用两步法合成高邻位树脂、高酯化度感光剂等关键合成技术，添加表面平整剂技术，解决了4英寸硅片涂布时出现条纹的关键性问题。建立了一系列从中间体到成品的分析测试方法和应用测试方法，经多家用户应用实验，证明其应用性能达到了正胶攻关合同技术指标，可以替代相应的进口产品。三废治理措施合理可行，目前已形成年产5～10吨的规模。
