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本成果主要应用于MEMS、新一代微电子工业、光电子工业等领域中微结构特征的计量。本成果提出了转换薄膜厚度为线宽的公称值,采用基于多层薄膜淀积技术制备纳米多线宽结构的新方法,该方法不需要复杂和昂贵的技术和设备,简单易行,且材料选择多样化,解决了50nm及以下MEMS微结构特征的制备难题。本成果研究了常用测量工具(如SEM、AFM等)对MEMS微结构特征的测量技术,基于新一代GPS规范MEMS微结构特征的提取、分析和表征过程,基于ITRS及ISO/TC213的相关标准,得到了一套LER/LWR/SWR的评定参数体系,并从工程实用角度出发,研制出了基于新一代GPS的纳米粗糙度数字化计量工具软件系统。所开发的软件系统具有功能强、集成性好、评定精度高等特点,应用前景广阔。