[00139009]等离子体增强化学气相淀积设备

1．是利用高频电源辉光放电产生等离子体对化学气相沉积过程施加影响的技术。　　2．成膜过程在在50～300Pa范围内。　　3．沉积温度低，在200℃～500℃范围内成膜，远小于其它CVD在700℃～950℃范围内成膜。　　4．成膜均匀，产能大。　　技术创新点：　　1．气体流量的重复性；　　2．气体压力的重复性；　　3．高频功率的重复性；　　4．设备结构整体优化设计；　　5．流量、压力、功率的综合参数技术。　　应用领域：太阳能电池制造，在微电子、光电子、MEMS等领域。　　市场前景预测：　　目前技术或产品开发应用情况、市场份额：本产品目前已定型，在太阳能电池电池生产线上运行，占有太阳能电池生产线国产设备的90%以上的市场份额。　　目标市场：主要是太阳能电池制造领域，现在生产太阳电池以高于30%的速度增长，至2010年国内（大陆）太阳能电池生产线的新增需求量将高达50多条，其中管式PECVD设备需求量每年就将超过200管，今后5年国内PECVD设备每年需求在50管以上，平均年产值至少将在7500万元以上。其经济效益是相当可观，PECVD类产品是高技术产品，其附加值高。　　合作方式：　　中国电子科技集团公司第四十八研究所负责技术投资，设备制造。招引资金进行资金投入合作。　　投资规模：　　项目总投资500万元，自筹资金250万元，招引资金150万元，银行信贷资金100万元。基本建设情况：将设备进一步优化，提高设备运行可靠性，提高产能和成膜质量，完全替代进口设备，占有国内太阳能电池制造设备市场，达到年生产能力50管。　　效益分析：年生产能力50管，销售收入可达到7500万元以上。