[00139540]纳米复合薄膜的近场光学应用
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技术详细介绍
项目介绍：伴随着纳米技术的进步，在光学领域里人们的注意力也由传统的远场光学转向了近场光学，即纳米材料与纳米结构的光学特性。研究结果表明，在传统的光存储介质中加入一层特殊的纳米复合薄膜之后，根据近场光学的原理，光波的传播可以克服衍射极限的限制，使缩小的光斑无发散地到达记录层。这在提高光盘的记录密度上有着巨大的应用潜力。另外，改变这层纳米复合薄膜的组分和结构，会使作用在记录层上的近场光强大大增强，从而使记录所需的功率阈值和脉宽阈值都明显降低。这项技术的优势在于：在常规的光盘上利用常规工艺即可产生这种纳米复合薄膜，与现有光盘生产工艺兼容。多年来，实验室对近场光学纳米复合薄膜进行了深入的研究，并从机理上对其进行了解释。纳米复合薄膜的成分和制备工艺已经申请了国家专利。
