[00014559]利用磁控溅射或电子束蒸发制备掺锡氧化铟（ITO）透明导电薄膜
技术详细介绍
由于ITO薄膜具有在可见光区的良好透明性和良好的导电性，它已经广泛应用于发光二极管、液晶显示器和太阳能电池等光电子器件的透明导电电极中。本课题组已经成功地利用磁控溅射或电子束蒸发技术制备出高质量的ITO透明导电薄膜材料。制备薄膜的方块电阻小于30欧，可见光区的平均透过率大于80％（含基板）。图1是一个方块电阻为20欧样品的光学透射谱。
由于ITO薄膜具有在可见光区的良好透明性和良好的导电性，它已经广泛应用于发光二极管、液晶显示器和太阳能电池等光电子器件的透明导电电极中。本课题组已经成功地利用磁控溅射或电子束蒸发技术制备出高质量的ITO透明导电薄膜材料。制备薄膜的方块电阻小于30欧，可见光区的平均透过率大于80％（含基板）。图1是一个方块电阻为20欧样品的光学透射谱。
