[00141157]用于光学性能精细调控的相变薄膜结构
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技术详细介绍
一种用于光学性能精细调控的相变薄膜结构,上下两层为二氧化硅层,中间为相变层,所述的相变层的材料为碳化钛或碳化硅掺杂的锑碲材料,相变层材料结构通式为MC-（Sb2Te3）x,其中,M为钛或硅,x的取值范围为0.5＜X＜1。本发明相变薄膜结构经过激光辐照处理后,在50-250℃温度区间内,其电阻率（或反射率）随温度变化没有显著的突变点,可用于光学精细调控。该相变薄膜结构可广泛应用于纳米尺度光电开关、超快光转换、超分辨光存储等多个领域。
