[00142673]采用磁控溅射大面积宽带减反射玻璃的制备技术
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技术详细介绍
采用磁控溅射连续镀膜工艺,在大面积玻璃（60英尺以下）的双面镀上四层介质膜：二氧化钛加二氧化硅,通过对两层介质膜厚度的控制,根据光束在多层介质膜中的干涉原理,减小光的反射度,从而达到增透的效果。
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采用磁控溅射连续镀膜工艺,在大面积玻璃（60英尺以下）的双面镀上四层介质膜：二氧化钛加二氧化硅,通过对两层介质膜厚度的控制,根据光束在多层介质膜中的干涉原理,减小光的反射度,从而达到增透的效果。
