[00148553]基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置
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技术详细介绍
一种基于受激发射光损耗激光直写曝光装置,其特点在于其构成包括激发光源、退激发光源、第一空间光调制器、第二空间光调制器、二分之一波片组、二向色镜、相位型波带片、振幅型波带片、高数值孔径消色差物镜和三维扫描平台。本发明可实现高分辨、长焦深的光学曝光。本发明属于光学曝光领域,特别是一种基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置。
