[00149067]光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法
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技术详细介绍
一种光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法,该方法是沿光轴方向移动所述的聚光镜组的最后一块透镜,实现矩形照明光斑边缘位置和中心位置相对光强的调节。本发明无需添加额外的光学元件,仅依靠原光刻机曝光系统中已有光学元件的简单移动,即可实现照明均匀性的校正。该方法具有操作方便、不引起光强衰减的特点。适用于任何紫外光波段的光刻机曝光系统。
