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[00016451]掺钕钨酸镧铯激光晶体及其制备方法和用途

交易价格: 面议

所属行业: 其他化学化工

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN200810071780.3

交易方式: 完全转让

联系人: 石小莉

进入空间

所在地: 福建福州市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

  本发明涉及一种掺钕钨酸镧铯激光晶体及其制备方法和用途。采用熔盐提拉法,在1010℃左右,以10~30转/分钟的晶体转速,0.2~0.7毫米/小时的拉速,生长出了高质量、较大尺寸的Nd3+:CsLa(WO4)2晶体。该晶体的主吸收峰在804nm,半峰宽(FWHM)为9nm,吸收截面为9.15×10-20cm2,适合于采用AsGaAl半导体激光来泵浦。在850nm-1400nm波段有三个非常宽的发射带,在1060nm处发射跃迁截面为15.4×10-20cm2,荧光寿命为210μs。该晶体是一种新型的激光晶体,可产生1060nm左右波长的激光输出。

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