交易价格: 面议
所属行业: 其他化学化工
类型: 发明专利
技术成熟度: 正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN200810071339.5
交易方式: 完全转让
联系人: 石小莉
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所在地: 福建福州市
本发明公开了一种P型导电性的CuI单晶体及其水热生长方法。生长的CuI晶体为γ相,是直接带隙的P型导电性半导体。利用低温水热法实现具有P型导电性优质CuI晶体的生长。得到的CuI晶体可以作为P型半导体衬底单晶用于宽禁带半导体光电子器件制作上,同时还可以作为超快闪烁晶体用于超高计数率电子束及γ和X射线测量中。由于工艺简单,操作方便,设备低廉,本发明提供的方法有利于工业化生产。由于矿化剂溶液中可以加入掺杂元素进行载流子调控,利用本方法可以实现CuI晶体材料的载流子的调控。
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