[00017857]高频辉光放电等离子体化学气相沉积（PECVD）装置
技术详细介绍
高频辉光放电等离子体化学气相沉积（PECVD）装置
项目简介：
PECVD（plasma enhanced chemical vapor deposition）—等离子体化学气相沉积，在化学气相沉积领域具有很好的前景。利用等离子体中大量高能量的电子，提供化学气相沉积过程所需的激活能，相对于其它CVD 方法具有显著降低CVD 薄膜沉积的温度等优点。包括辉光放电等离子体发生电源、气体质量流量计、真空计、分子泵等多个组成单元。可以在不同气压和气体环境下进行PECVD。
技术特点：
1）自主研发的等离子体发生电源可输出较大范围内幅值、频率可调的放电电压信号；2）可实现100~105 Pa 不同气压以及不同气体环境，且通过气体流量精确控制实现在任一气压值稳定气压状态。3）专用设计的反映腔体结构和水冷放电电极结构，可长时间、稳定地生成PECVD 用辉光放电等离子体。腔体内部包含多种可调性测量结构，可以对生成的等离子体和PECVD 过程进行多种形式的监测。4）该装置根据产品化标准进行了多重安全性和人机互动性专门设计，符合产品要求。
项目简介：
PECVD（plasma enhanced chemical vapor deposition）—等离子体化学气相沉积，在化学气相沉积领域具有很好的前景。利用等离子体中大量高能量的电子，提供化学气相沉积过程所需的激活能，相对于其它CVD 方法具有显著降低CVD 薄膜沉积的温度等优点。包括辉光放电等离子体发生电源、气体质量流量计、真空计、分子泵等多个组成单元。可以在不同气压和气体环境下进行PECVD。
技术特点：
1）自主研发的等离子体发生电源可输出较大范围内幅值、频率可调的放电电压信号；2）可实现100~105 Pa 不同气压以及不同气体环境，且通过气体流量精确控制实现在任一气压值稳定气压状态。3）专用设计的反映腔体结构和水冷放电电极结构，可长时间、稳定地生成PECVD 用辉光放电等离子体。腔体内部包含多种可调性测量结构，可以对生成的等离子体和PECVD 过程进行多种形式的监测。4）该装置根据产品化标准进行了多重安全性和人机互动性专门设计，符合产品要求。
