[00002626]一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚和具有该坩埚的源炉
技术详细介绍
本发明的一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚和具有该坩埚的源炉，属于薄膜生长技术领域。其中本发明的一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚，坩埚设置为直筒形，且坩埚顶部外壁与坩埚底部外壁等径，用于减少坩埚顶部的热辐射；坩埚顶部设置有定位垫片，定位垫片用于固定坩埚顶部。本发明的一种提高蒸发束流稳定性的源炉，包括坩埚、蒸发源和加热单元，坩埚设置于蒸发源内，坩埚的外部设置有加热单元，该加热单元用于对坩埚进行加热，坩埚为上述的坩埚。本发明减小束流挡板开启或者关闭对坩埚温度的影响，提高坩埚温度的稳定性及束流的稳定性，减小热辐射的量以降低坩埚温度的波动，更加稳定控制束流以制备更高质量的薄膜。
