[00002627]一种蒸发速率可控的电子束蒸发源
技术详细介绍
超高真空系统中的电子束蒸发源
电子束蒸发源包括棒状金属源材料即金属源棒、正高压电源、遮板（8）和生长速率计（9）的组合体、离子收集片（7）、灯丝（5）、定位孔柱（4）、金属源棒（3）外围为冷却水罩（6），灯丝支架的金属柱（1）以及线性驱动器（2），正高压电源施加金属源棒正高压，阴极灯丝发射的热电子；金属源棒被热电子轰击加热到足够高的温度后以非常低的速率发射出金属源原子束成为蒸发源，蒸发源上设有一个遮板（8），在停止蒸发的时候遮挡蒸发束，遮板上设有一个同心孔，在遮板打开薄膜生长的时候让蒸发束通过；电子束蒸发源定位孔柱来活络限定源棒在轴向的进动，并使源棒在调整位置的时候也始终在蒸发源竖直中心上，蒸发源发射路径上有一个离子收集片。
电子束蒸发源包括棒状金属源材料即金属源棒、正高压电源、遮板（8）和生长速率计（9）的组合体、离子收集片（7）、灯丝（5）、定位孔柱（4）、金属源棒（3）外围为冷却水罩（6），灯丝支架的金属柱（1）以及线性驱动器（2），正高压电源施加金属源棒正高压，阴极灯丝发射的热电子；金属源棒被热电子轰击加热到足够高的温度后以非常低的速率发射出金属源原子束成为蒸发源，蒸发源上设有一个遮板（8），在停止蒸发的时候遮挡蒸发束，遮板上设有一个同心孔，在遮板打开薄膜生长的时候让蒸发束通过；电子束蒸发源定位孔柱来活络限定源棒在轴向的进动，并使源棒在调整位置的时候也始终在蒸发源竖直中心上，蒸发源发射路径上有一个离子收集片。
