[00002641]利用ALD制备金属纳米间隙的表面增强拉曼散射基底的方法
交易价格:
面议
所属行业:
化工生产
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201510089462.X
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
许尔杰
进入空间
所在地:
江苏南京市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开一种利用ALD制备金属纳米间隙的表面增强拉曼散射基底的方法,具体如下(a)清洗衬底;(b)在衬底表面生成生成金属纳米颗粒;(c)在衬底表面沉积一层氧化物薄膜;(d)衬底表面再次沉积金属纳米颗粒;(e)将衬底置于酸性溶液或碱性溶液中腐蚀,即获得金属纳米间隙的表面增强拉曼散射基底;本发明利用ALD在金属颗粒之间引入均一的纳米级厚度的氧化物,再通过化学腐蚀的方法去除部分氧化物,以此来制备纳米级的金属间隙,并用来作为表面增强拉曼散射基底,该方法步骤简单、重复性好、成本低廉,所得基底具有优异的表面增强拉曼散射性能。