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[00002641]利用ALD制备金属纳米间隙的表面增强拉曼散射基底的方法

交易价格: 面议

所属行业: 化工生产

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201510089462.X

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 许尔杰

进入空间

所在地: 江苏南京市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

本发明公开一种利用ALD制备金属纳米间隙的表面增强拉曼散射基底的方法,具体如下(a)清洗衬底;(b)在衬底表面生成生成金属纳米颗粒;(c)在衬底表面沉积一层氧化物薄膜;(d)衬底表面再次沉积金属纳米颗粒;(e)将衬底置于酸性溶液或碱性溶液中腐蚀,即获得金属纳米间隙的表面增强拉曼散射基底;本发明利用ALD在金属颗粒之间引入均一的纳米级厚度的氧化物,再通过化学腐蚀的方法去除部分氧化物,以此来制备纳米级的金属间隙,并用来作为表面增强拉曼散射基底,该方法步骤简单、重复性好、成本低廉,所得基底具有优异的表面增强拉曼散射性能。

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