[00020620]一种陶瓷‑金属纳米线复合薄膜及其制备方法
技术详细介绍
摘要：本发明公开了一种制备陶瓷‑金属纳米线复合薄膜的方法，该方法采用磁控溅射，借助溅射过程中化合物陶瓷靶及金属靶功率的调控，并结合辅助衬底偏压的选择性刻蚀，可大范围实施复合薄膜内金属纳米线尺寸及间距的调整；同时，该方法在制备薄膜过程中，绿色无污染，且方便在各类型衬底材料上低成本、大面积制备。本发明所述的陶瓷可以是氧化物、氮化物、硼化物及碳化物等；所述的金属可以是金、银、铜、铂等；所述衬底可以为金属、或无机半导体材料、或无机绝缘材料；所述的陶瓷‑金属纳米线复合薄膜可以是单层，也可以是具备不同金属体积百分数膜层的叠加，即多层堆叠结构。采用本发明所制备的复合薄膜，具备明显的光学各向异性。
