X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
关于我们 | 帮助中心
欢迎来到天长市科技大市场,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
成果 专家 院校 需求
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[00303131]PVD设备:磁控溅射设备

交易价格: 面议

所属行业: 检测仪器

类型: 发明专利

技术成熟度: 通过小试

专利所属地:中国

专利号:

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 蒋卓宜

进入空间

所在地: 安徽省合肥市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

合肥致真精密设备有限公司(Truth Equipment Co., LTD)成立于2021年5月,是一家专注于高精度物理气相沉积设备及其关键组件研发和制造的国家高新技术企业。公司依托北京航空航天大学、北航合肥创新研究院、杭州北航国际创新研究院等雄厚的科研力量,研制了多款具有自主知识产权的国产高端科研级和产业级磁控溅射设备:科研级磁控设备具备超高真空环境与单原子层沉积精度核心优势,支持8英寸及以下尺寸晶圆兼容;极限真空度优于1×10⁻⁹ mbar,基片温控范围800℃(最高可选1200℃);溅射室支持多阴极装载,可实现共焦溅射工艺。 量产型薄膜沉积设备:设备兼容最大12英寸晶圆,镀膜均匀性优于1.5%;工艺室极限真空度≤5×10⁻⁹ mbar,进样室极限真空度≤5×10⁻⁶ mbar。采用四边形/六边形/八边形腔室架构,实现预清洗室、溅射室、退火室、蒸发室、氧化室等多工艺室互联,并集成双臂机械臂、校准及测量装置。其中,溅射室可配置6-12个4英寸阴极。通过晶圆真空传输平台可灵活扩展多溅射室配置,广泛适配生产产线及实验室场景需求。

【成果编码】20263249

【单位性质】高校

【统一社会信用代码】12340100MB11144136

【是否有意愿在安徽落地转化】是

【意愿落地城市】合肥市

【期望参展板块】专题互动展区/重点高校

【技术水平】国内领先

【是否有自主知识产权】是

【项目阶段】中试

【对接倾向】企业

【展品联系人】赵龙敏

【展品联系人手机号】19966460583

【展示方式】模型

【展品长度】150

【展品宽度】100

【展品高度】100

【展品重量】200

【参展要求】接电

【实物确认】是

【状态】已审核,待遴选

【参展状态】线下+线上参展

【用户回复】是

推荐服务:

Copyright  ©  2019    天长市科技大市场    版权所有

地址:滁州高新区经三路

皖ICP备2023004467