[00033367]硅单晶碱性抛光液及清洗液
技术详细介绍
硅单晶碱性抛光液及清洗液项目，始自七十年代中期，不断对产品研发与升级。FA/O硅单晶碱性 抛光液，具有较高的抛光速率，能有效去除衬底表面损伤层，表面微粗糙度较低，可解决衬底片结底不 平引起的噪声增加、漏电流增大，实现了表面高完美性，提高了衬底片器件区的可靠性与衬底片良品率。 FA/O硅单晶清洗液，采取特有的物理优先吸附，有效去除抛光片表面颗粒物、有机物沾污，清洗后衬 底片表面重金属离子降至ppm级，并且清洗容易、洁净度高。
市场前景与效益分析：
据统计，仅中国（含台湾地区）硅单晶抛光液的年需求额40多亿元。FA/O硅单晶碱性抛光液， 广泛用于硅分立器件、功率器件与集成电路衬底片加工。已多年供应国内华润华晶、洛阳鼎晶、深圳深 爱等多家知名企业，被指定唯一用于国家航天神五至神十专用集成电路高可靠衬底抛光片加工，具有广 泛的市场应用前景。FA/O硅单晶清洗液，广泛用于要求易清洗、高洁净的硅衬底片清洗。已被中科晶 电信息材料有限公司等多家知名企业应用，市场应用前景广泛。
其它说明：
研发的抛光液获国家1983年发明四等奖、1990年发明三等奖、清洗技术获1999年国家三等奖。抛光 液、抛光清洗液列为国家级科技成果重点推广计划，列为国家重点新产品，获得授权专利6项。
