本发明公开了一种TiB2/AlTiN复合涂层,所述TiB2/AlTiN复合涂层是以TiB2陶瓷靶和AlTi溅射靶为原料,通过多靶磁控溅射在基体上交替溅射沉积形成多层结构的TiB2/AlTiN复合涂层。所述TiB2/AlTiN复合涂层中AlTiN层与TiB2层的总层数为10~100层,调制周期的厚度为0.1~1μm。本发明的制备的TiB2/AlTiN复合涂层表现出了较高的硬度,良好的韧性和抗高温氧化性。本发明的磁控溅射双靶共沉积技术操作方便,无需后处理等工艺,制备周期短,成本低,可复现性好,应用范围广,可实现工业化大生产。