交易价格: 面议
所属行业: 合成化学
类型: 发明专利
技术成熟度: 正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201710113692.4
交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股
联系人: 厦门立德软件公司
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所在地: 福建厦门市
本申请属于金属配合物领域,具体涉及一种阴离子调控的8‑羟基喹啉金属配合物四聚晶体及其制备方法。本发明所提供的阴离子调控的8‑羟基喹啉金属配合物四聚晶体,其化学结构如式(I)所示,具有较高的发光强度、良好的热稳定性以及较长的荧光寿命,在有机发光材料的制备上存在很大的应用潜能,也可用于研究不同阴离子对其配位构型以及发光性能的影响。此外,本发明所提供的金属配合物四聚晶体原料成本低廉,来源广泛,设备简单,工艺优化,可实现大规模的生产,具有广阔的发展前景。
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