本发明公开了基于热感生电场诱导流变直写的光栅制造方法,栅线掩膜制造装置包括控制系统,热源,接收平台,热电材料,挤出平台,供液装置。光栅制造方法,步骤为1)将该图形结构转换为轮廓数据和填充数据;2)制造掩膜;3)形成保护膜;4)去除掩膜,清洗,在保护膜上形成栅线结构的凹槽即可。本发明的光栅制造方法,可以避免传统近场电纺直写技术的相关缺点例如电压阀值高,多针头直写的时候,容易产生干涉现象,以及容易产生简短放电现象,且所得掩膜的精度不高等。另外,本发明的光栅制造方法,不涉及化学腐蚀过程,工艺绿色简单且成本较低。