交易价格: 面议
所属行业: 分析仪器
类型: 发明专利
技术成熟度: 正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201310408792.1
交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股
联系人: 厦门立德软件公司
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所在地: 福建厦门市
本发明公开了一种基于自适应预测模型的高容量可逆水印方法;包括水印嵌入过程及水印提取和原图像恢复过程;所述水印嵌入过程包括预测模型的设计过程及自适应嵌入策略;所述水印提取和原图像恢复过程为所述水印嵌入过程的逆过程;本发明通过充分利用相邻像素间高相关性的特性,得到预测性能较高的预测模型,从而有效地降低了已有算法中修改预测误差进行水印嵌入时所产生的高嵌入失真;另外,通过评估待嵌入集合中的每一像素的四个环绕像素的相关程度,使得约占全部像素四分之三的像素能携带1-2比特水印,因此,实现了容量的提高。
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