交易价格: 面议
所属行业: 其他新材料技术
类型: 发明专利
技术成熟度: 正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201210479659.0
交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股
联系人: 桂林电子科技大学
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所在地: 广西壮族自治区桂林市
本发明公开了一种新型真空高压铜铬系触头材料的制备方法,它是将冶金熔炼的铜-铬合金,利用激光束快速扫描铜-铬合金表面,进行表面重熔,制备出晶粒细小,均匀弥散的呈颗粒状铬合金的新型触头材料。采用该方法制作的铜铬系触头致密度高,均匀性好,结合强度高,杂质含量低,能有效地提高真空开关的可靠性。
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