[00041749]一种CF4等离子体氟化绝缘子的方法
技术详细介绍
本发明属于高电压与绝缘技术领域，具体涉及一种CF4等离子体氟化绝缘子的方法，该方法是将绝缘子放置于反应腔体中，通入CF4气体与惰性气体的混合物，在室温及0.01～0.1atm的低气压下，通过放电等离子体处理2～30min，使得CF4气体与绝缘子表面发生反应形成氟化层。本发明的特点是：采用在CF4气体中等离子体处理的方法对绝缘子表面进行氟化，改善了绝缘子的沿面闪络特性，提高了绝缘子的耐电强度，其闪络电压最高可以提高约50％，同时改善了绝缘子表面疏水和疏油的性质，提高了绝缘子防湿闪和污闪的能力。
