交易价格: 面议
所属行业: 其他电气自动化
类型: 发明专利
技术成熟度: 正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201410564619.5
交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股
联系人: 桂林电子科技大学
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所在地: 广西壮族自治区桂林市
本发明公开一种等间距固定电荷区SOI耐压结构及功率器件,包括自下而上依次叠放的衬底层、介质埋层、有源层、以及多个浓度大于等于1×1013cm-2的高浓度固定电荷区;这些高浓度固定电荷区由介质材料形成,且电荷极性为正;这些高浓度固定电荷区均位于介质埋层上部,且相互之间呈间断设置,并呈等间距分布。本发明不仅可以大大提高介质埋层电场,从而有效提高耐压;而且工艺实现简单,与常规CMOS工艺完全兼容。
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