[00043896]一种通过激光加热制作薄膜图案的方法
技术详细介绍
本发明公开了一种通过激光加热制作薄膜图案的方法。在磁控溅射沉积金属或非金属薄膜时，采用外部装置对溅射基座进行冷却，冷却的温度为-196～5℃，同时采用激光对基片表面图案化区域加热。激光加热区域与非加热区域的温度差导致薄膜的附着力不同，即在加热区域沉积的薄膜附着力大，未加热区域沉积的薄膜附着力小。然后采用离子束刻蚀技术，通过调节合适的离子束功率，使未加热区域的金属或非金属薄膜快速刻蚀，而加热区域的金属或非金属电极薄膜得以保留并形成所需图案。本发明无需物理掩膜，与光刻技术相比，具有工艺简单，成本低，易于实现工业化的特点，特别适合于各类薄膜器件的制备和加工。
