X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
关于我们 | 帮助中心
欢迎来到天长市科技大市场,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
成果 专家 院校 需求
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[00046366]二维有序六方紧密堆积结构SiO2膜的制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 纳米及超细材料

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201210239163.6

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 哈尔滨工业大学

所在地: 黑龙江哈尔滨市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

摘要:二维有序六方紧密堆积结构SiO2膜的制备方法,它涉及一种SiO2膜的制备方法。本发明为了解决现有制备具有六方紧密堆积结构的SiO2胶体晶体的方法可重复性低,膜层不可控,成本高,面积小的技术问题。本方法如下:一、制备SiO2颗粒分散液;二、玻璃基片的清洗;三、氨基化处理载玻片;四、十六烷基三甲基溴化铵改性纳米SiO2;五、铺展液的配制:六、将氨基化处理的载玻片与铺展液放入系统中,在氨基化处理的载玻片表面上得到SiO2膜,将SiO2膜干燥,烧结,即得。本发明制备的二维有序六方紧密堆积结构SiO2膜,具有面积大,有序度高,粒子粒径小的优点,并且膜层高度可控,重复性高,价格低廉。

推荐服务:

Copyright  ©  2019    天长市科技大市场    版权所有

地址:滁州高新区经三路

皖ICP备2023004467